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1 天
纳米压印光刻技术旨在挑战EUV
9 月, 佳能 推出了这项技术的第一个商业版本,有朝一日可能会颠覆最先进的硅芯片的制造。它被称为纳米压印光刻 (NIL),能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化,使逻辑芯片能够与目前正在量产的 Intel、AMD 和 Nvidia 处理器相媲美。
17 天
原创 国产EUV光刻机,万众瞩目,成美国芯片禁令的破局点
尽管纳米压印(NIL)和电子束曝光(EBL)等技术在某些特定应用中显示出潜力,但在当前的芯片大规模制造中,光刻技术依然是主流。尤其是在高精度、大规模生产方面,光刻机扮演着无可替代的角色。
5 天
on MSN
国产光刻机突破在望:距离EUV技术仅剩两步之遥
在半导体制造领域,尽管佳能等公司推出了纳米压印技术(NIL),声称能够生产5纳米及以下级别的芯片,但现实情况表明,光刻技术仍然是当前大规模芯片生产的核心。
腾讯网
1 天
记者:赫罗纳准备引进巴萨后卫加西亚,总价约1000万欧
据塞尔电台记者Nil Solà的消息,赫罗纳准备引进巴萨后卫埃里克-加西亚,总价约1000万欧。 记者Nil Solà报道称,赫罗纳准备在巴萨注册保-维克托和奥尔莫后,完成埃里克-加西亚的转会。这个条件是不可或缺的。
5 天
国产光刻机离EUV技术突破,仅一步之遥!
光刻机的发展历程充满挑战,最前沿的EUV光刻机代表着第六代技术,用于7nm以下芯片的制造,而我们当前只有ArF光刻机可用。早前,上海微电子生产的90nm光刻机虽然量产,但如今显得有些落后。近期曝光的新型氟化氩光刻机,采用193nm波长,其分辨率达到了65nm,套刻精度更是小于等于8nm,标志着我们在ArF领域的技术已进入顶级水平。下一步,我们需要攻克浸润式DUV光刻机(也称ArFi光刻机),由于这 ...
腾讯网
1 天
记者:赫罗纳准备签下埃里克-加西亚,费用约1000万欧元
直播吧1月3日讯 据塞尔电台记者Nil Solà报道,赫罗纳准备签下埃里克-加西亚,费用约1000万欧元(固定+浮动)。 Nil Solà在社交媒体上这样写道:“当巴萨为注册奥尔莫和保-维克托努力时,赫罗纳已经准备好引进埃里克-加西亚。” ...
18 天
700万美元NIL合同!全美第一高中生选择杨百翰大学
在一则让人瞩目的消息中,全美首屈一指的高中篮球新星AJ-迪班萨在ESPN的《First Take》节目上宣布将加入杨百翰大学。报导称,迪班萨将获得接近700万美元的NIL合同,这在大学体育界引发了广泛关注。 前NBA球员杰夫-蒂格在自己的播客中对此做出了直言不讳的评论,他表示:“如果是我,我也会毫不犹豫选择杨百翰大学,哪怕得牺牲一些生活自由。”这其中提到的“牺牲”正是指杨百翰大学所在的犹他州社会文 ...
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