在半导体制造领域，尽管佳能等公司推出了纳米压印技术（NIL），声称能够生产5纳米及以下级别的芯片，但现实情况表明，光刻技术仍然是当前大规模芯片生产的核心。

尽管纳米压印（NIL）和电子束曝光（EBL）等技术在某些特定应用中显示出潜力，但在当前的芯片大规模制造中，光刻技术依然是主流。尤其是在高精度、大规模生产方面，光刻机扮演着无可替代的角色。

光刻机的发展历程充满挑战，最前沿的EUV光刻机代表着第六代技术，用于7nm以下芯片的制造，而我们当前只有ArF光刻机可用。早前，上海微电子生产的90nm光刻机虽然量产，但如今显得有些落后。近期曝光的新型氟化氩光刻机，采用193nm波长，其分辨率达到了65nm，套刻精度更是小于等于8nm，标志着我们在ArF领域的技术已进入顶级水平。下一步，我们需要攻克浸润式DUV光刻机（也称ArFi光刻机），由于这 ...

在一则让人瞩目的消息中，全美首屈一指的高中篮球新星AJ-迪班萨在ESPN的《First Take》节目上宣布将加入杨百翰大学。报导称，迪班萨将获得接近700万美元的NIL合同，这在大学体育界引发了广泛关注。 前NBA球员杰夫-蒂格在自己的播客中对此做出了直言不讳的评论，他表示：“如果是我，我也会毫不犹豫选择杨百翰大学，哪怕得牺牲一些生活自由。”这其中提到的“牺牲”正是指杨百翰大学所在的犹他州社会文 ...